热点快评：重大突破！我国拿到光刻机“入场券”(2020-11-16)

今年以来，美国连续发布的几项禁令，让我国芯片产业发展举步维艰。禁令对于芯片技术和供应链的切断，让国内基本丧失了在高端芯片领域发展的能力。但这样的局面并不会一直持续下去，11月14日，据央…[详情]

国产超级光刻机火热刷屏 核心技术突破刻不容缓(2018-12-05)

【中国仪表网仪表产业】近日，一篇名为《我国研制世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备》的新闻报道在各大媒体瞬时刷屏，尤其是席卷了半导体领域，在相关业内人士的朋友圈、微博受到大量转载。但该火热…[详情]

面对垄断，自主研发光刻机实现国产化替代势在必行(2017-08-14)

光刻机作为芯片生产中最核心的设备，是大陆芯片生产设备制造的最大短板。不少人会将光刻机和刻蚀机搞混，其实，光刻机的工作原理是用光将电路结构临时“复制”到硅片上，而刻蚀机是按光刻…[详情]

光电所研制出实用深紫外光刻机(2017-07-31)

近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Maskaligner），光刻分辨力达到500nm。 　　Maskaligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用…[详情]

光电所成功研制出实用深紫外光刻机(2017-07-28)

近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机(Maskaligner)，光刻分辨力达到500nm。 (a)设备外观图；(b)设备输出光谱实测曲线 　　Maskaligner因使用方…[详情]

光电所自主研制成功紫外纳米压印光刻机(2016-04-06)

近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在微纳制作设备领域再次发力，自主研制成功紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备的三分之一，推进我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。…[详情]