超薄低相位差PC膜开发成功
作者： 2014年08月22日 来源： 浏览量：
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近日，日本旭硝子公司通过注塑成形方式成功开发出厚度薄至100微米、相位差更低的聚碳酸酯（PC）薄膜CarbogalssC110C-LR。该产品主要设计用途为氧化铟锡（ITO）、透明导电膜的基本膜等，相位差在10纳米以下。
近日，日本旭硝子公司通过注塑成形方式成功开发出厚度薄至100微米、相位差更低的聚碳酸酯（PC）薄膜CarbogalssC110C-LR。该产品主要设计用途为氧化铟锡（ITO）、透明导电膜的基本膜等，相位差在10纳米以下。
据介绍，以往面向智能手机等电子设备的透明导电膜基材中，多在聚对苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜上涂敷ITO膜。而在触摸面板等领域，应用程序和要求品质呈现多样化，除PET-ITO外，其他材料的用途开发也十分活跃。
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