极紫外光刻胶重大专项通过验收

作者： 2018年06月06日来源：全球化工设备网浏览量：

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5月24日，国家科技重大专项极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项项目极紫外光刻胶材料与实验室检测技术通过验收。　　该项目由中国科学院化学研究所、中国科学院理化技术研究所、北京科华微电子材料有限公司联

　　5月24日，国家科技重大专项极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项项目极紫外光刻胶材料与实验室检测技术通过验收。

　　该项目由中国科学院化学研究所、中国科学院理化技术研究所、北京科华微电子材料有限公司联合承担。经过项目组全体成员的努力攻关，完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备、合成工艺、配方组成以及光刻胶制备、实验室光刻胶性能初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。截止到目前，共获得授权专利10项(包括国际专利授权3项)。

　　与会专家对项目取得的研发成果给予了充分肯定。专家指出，开展极紫外光刻胶的研发具有战略眼光，经过项目组成员几年的努力，完成了研发任务，达到了项目任务书中规定的指标;建立了一支高档光刻胶研发队伍，为我国的半导体集成电路产业的稳定发展提供了人才支持。

　　课题承担单位表示，我国高档电子化学品的研发正处于高速发展期，该项目的完成将对我国半导体产业的稳定发展提供重要保证，希望国家对高档光刻胶的研发给予持续支持。

　　下图为项目人员汇报项目总体情况。

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