真空气氛炉的主要功能和特点

作者： 2018年12月18日来源：全球化工设备网浏览量：

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真空气氛炉的温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、控制、自整定功能，并可编制30段升降温程序。适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛

　　真空气氛炉的温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、控制、自整定功能，并可编制30段升降温程序。适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

　　真空气氛炉主要功能和特点

　　1.LED大屏幕液晶显示，本机集成了真空泵，内循环水冷却系统，避免外接水源的繁锁，使设备的外表面温度更低，美观大方，操作简洁。

　　2.本款产品加热系统，混气系统，真空系统，内循环水冷却系统，监测系统，都可通过控制按钮操作。本机功能全面，满足客户绝大部分要求。

　　3.专业的真空设计，独特的密封技术，保证了炉腔的气密性，真空度远远超过同类产品。

　　4.智能PID高精度控制，自整定功能,30段可编程控制，可设置30段升降温程序,实现了功率无损耗。

　　5.可选配485转换接口，实现与计算机相互连接。选配专用的电脑控制系统来完成与单台或多达200台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。

　　6.加热元件采用优质硅钼棒，最高发热温度可达1700℃。

　　7.升温速度快，升温速率可调: Max:30℃/Min

　　8.热污染少，采用国内新型高纯氧化铝微晶体纤维保温材料，双层壳体间风扇制冷，可使炉体表面快速降温,外壳表面不烫手(约60℃)。

　　9.控温精密，具备多种温控器可供选择，温度波动小(控温精度±1℃)。

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