化学品供应系统 供酸系统 半导体CSE-CDS自动供液系统 湿法刻蚀清洗 槽车冲填CCB VMB阀箱化工厂分析室设计的简单介绍本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高、配比精确、操作简便等特点,具有良好的耐腐蚀性能。 控制模式:手动控制模式、自动控制模式。化学品供应系统 供酸系统 半导体CSE-CDS自动供液系统 湿法刻蚀清洗 槽车冲填CCB VMB阀箱化工厂分析室设计的详细信息自动供液系统(CDS) 半导体CSE-CDS自动供液系统,适用对象:HF 、HNO3 、KOH 、NH4OH 、NAOH、H2SO4 、HCL 、H2O2 、IPA等。 主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高、配比精确、操作简便等特点,具有良好的耐腐蚀性能。 控制模式:手动控制模式、自动控制模式。 上海晶福机电科技有限公司,成立于2014年12月,以源自于日本的技术,且与日本、台湾厂商长期配合的实践经验。专注于微电子、半导体工厂、光纤、LCD/TFT 、太阳能、LED、化工、生物制药领域,为客户提供超高纯输送系统的全面解决方案。服务领域涵盖化学品液体输送系统(CDS)、槽车充填系统(CCB)、纯净气体输送系统、净化系统、废气处理系统、监控系统。提供从工程咨询、系统规划设计、安装建设到系统测试的完整工程服务。专业的系统设计整合能力、高效的建设管理团队、卓越的服务精神和不断创新的技术。为客户创造稳定,持续,不间断的工艺保障。晶福科技以为顾客提供令其落意的整套科学解决方案为使命,致力于保证低风险,高安全的服务系统。 以上是化学品供应系统 供酸系统 半导体CSE-CDS自动供液系统 湿法刻蚀清洗 槽车冲填CCB VMB阀箱化工厂分析室设计的详细信息,如果您对化学品供应系统 供酸系统 半导体CSE-CDS自动供液系统 湿法刻蚀清洗 槽车冲填CCB VMB阀箱化工厂分析室设计的价格、厂家、型号、图片有任何疑问,请联系我们获取化学品供应系统 供酸系统 半导体CSE-CDS自动供液系统 湿法刻蚀清洗 槽车冲填CCB VMB阀箱化工厂分析室设计的最新信息 |