光刻
采用热扫描探针光刻和激光直写相结合的方法快速制备点接触量子点硅基晶体管(2019-02-27)
制造高品质的固态硅基量子器件要求高分辨率的图形书写技术,同时要避免对基底材料的损害。来自IBM实验室的Rawlings等人利用SwissLitho公司生产的3D纳米结构高速直写机NanoFrazor,结合其高分辨热探…[详情]
我国成功研制新型中紫外直接光刻机(2017-04-18)
近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微…[详情]