碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范(2021-01-15)

近日，北京第三代半导体产业技术创新战略联盟对外发布《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范》征求意见稿，望相关部门提出宝贵意见。本文件自2021年1月1日开始实施。　　本标准引…[详情]

采用热扫描探针光刻和激光直写相结合的方法快速制备点接触量子点硅基晶体管(2019-02-27)

制造高品质的固态硅基量子器件要求高分辨率的图形书写技术，同时要避免对基底材料的损害。来自IBM实验室的Rawlings等人利用SwissLitho公司生产的3D纳米结构高速直写机NanoFrazor，结合其高分辨热探…[详情]