全方位行星式球磨机等设备项目

序号

设备名称

技术指标

单位

数量

预算金额（万元）

是否接受进口产品

1

石墨烯专用CVD系统

1、炉体结构：高纯 Al2O3保温材料，保证了炉膛有极好的温度均匀性。
*内炉膛表面涂有进口的1760度高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命
*炉子底部的冷却风扇保证了热量正常对外释放.
*密封法兰系统全不锈钢制作。
2、电源:208-240VAC, 50/60Hz, 单相, 2.5KW ( 20A 保险丝) 
3、加热温度: 最高温度: 1100°C
 连续温度: 1000°C
4、加热区: 加热区长度: 440mm
 恒温区长度: 120mm (±1°C) @400~1100°C
 选择: 双温区炉可获得t 240mm 的恒温区
5、石英管: 外管: OD100 x ID 96 x 1400, mm
 内管: OD80 x ID 75 x 1800 mm 一对 SS304不锈钢法兰，通过用两个高温“O”型圈紧密密封可获得高真空。
炉子底部装有一对滑轨
炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却。
为了得到较快的加热速度，可以先将炉子预热，然后滑到放置样品的位置。
6、混气系统：4路精密质子流量计：数字显示、气体流量自动控制.
 MFC 1范围: 0~100 sccm
 MFC 2范围: 0~200 sccm
 MFC 3范围: 0~200 sccm
 MFC 4范围: 0~500 sccm
 气路: 4 路
 流量精度: 0.2%
 进气和出气接口: 1/4" 卡套
 一个混气罐.
 每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。
 通过控制面板上的旋钮来调节气体流量.
7、真空泵： 安装在移动架底部的机械泵，真空度达 10-3 Torr.
 真空泵与手动挡板阀之间用KF25 快接与不锈钢波纹管连接 .
 数字真空表安装在一端的法兰上.
8、极限真空度: 10^-2 torr (配机械泵)
9、炉体: 550 x 380 x 520,移动架: 600x600x597
一年质保期 ,CE 认证
10、耗材：生长石墨烯的铜箔5kg宽150mm，厚 25um，铜箔5kg宽150mm，厚 9um，镍箔 (20m length x 150mm width x 25um thickness)，甲烷一瓶(含钢瓶)，氩气一瓶(含钢瓶)

套

1

11.3

否

2

全方位行星式球磨机

*1.主轮传动方式：皮带传动（进口皮带）；

*2.行星轮传动方式：增强型含油尼龙齿轮传动；

3.工作方式：两个或四个球磨罐同时工作；

4.最大装样量：球磨罐容积的三分之二；

5.进料粒度：土壤料≤10mm，其他料≤3mm；

*6.出料粒度：最小可达0.1um；

7.转速比（公转：自转）：1：2；

8.转速(自转)：0～580转/分；

*9.运行模式：球磨机由变频器控制共有五种运行模式：

  9.1、单向运行，不定时停机；

  9.2、单向运行，定时停机；

  9.3、正、反向交替运行，定时停机；

  9.4、单向间隔运行，定时停机；

  9.5、正、反向交替间隔运行，定时停机；

10.调速方式：变频调速0～50Hz，分辨率1Hz，本机限速0～45Hz；

*11.控制方式：变频无级调速、程控控制，随时手动调节、1～999分钟定时运行，1～300分钟定时正反转，1～999分钟定时间隔运行，0～100次重启动运行；

12.功率：0.75kw；

13.最大连续工作时间（满负荷）：48小时；

14.外形设计：控制面板在球磨系统安全罩正上方，便于操作，结构紧凑，美观大方；

15.配件：500ml玛瑙球磨罐一套4个（配玛瑙球）；500ml陶瓷球磨罐一套4个（配陶瓷球）；500ml尼龙球磨罐一套4个（配氧化锆球）；500ml不锈钢球磨罐一套4个（配不锈钢球）；500ml聚四氟乙烯球磨罐一套4个（配聚四氟乙烯球）；100ml玛瑙球磨罐4个（配玛瑙球）带真空套；50ml玛瑙球磨罐4个（配玛瑙球）带真空套；

*16.稳定性要求：球磨机国内知名品牌口碑良好，性能稳定，使用寿命长；

*17.需提供厂家资料及授权，以便售后维修服务；

18.标注“*”为实质性指标必须满足。

套

1

6.50

否

3

等离子增强化学沉积系统

一、真空腔室
*1. 极限真空度：≤6.67x10-6 Pa (经烘烤除气后)；
 2. 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统从大气开始抽气，40分钟可达到 6.6x10-4 Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa；
 3. 工作真空度：1～1000Pa；系统主要由真空反应室、上盖组件、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成；
 4. 圆筒型真空室尺寸：Ф400mm x300mm，电动上掀盖结构，也可带动中间壳体升起，上盖具有水冷结构，中间壳体采用双层夹壁水冷结构，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电解抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；
 5. 进气匀气盘尺寸：Φ120mm，可使气流均匀进入反应室； 耦合电极引入结构；手动进气截止阀门：1台；内外屏蔽罩，避免干扰其它仪器；加热钨丝：5根；
 6. 灯丝表面最高温度：2000°C；安装在基片与匀气盘之间，可拆卸；热丝与基片可在10～20mm之间调节；热丝可加直流电源：80V，60A；
*7. 基片尺寸：可放置100mm基片；*基片加热最高温度 1000°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制； 
*8. 控制系统：1套。
二、气路系统
   气瓶柜2套，气路柜一套，气体处理系统，报警系统
1．气瓶柜系统：
*1.1：硅烷、氢气双瓶柜1套 ，含阀门、管路、报警系统
*1.2：硼烷、磷烷双瓶柜1套，含阀门、管路、报警系统
2．气体处理：
2.1具有酸碱喷淋功能
2.2具有燃烧功能
2.3具有报警功能
2.4可处理气体量：10 l/s
2.5加热温度800 ℃4
*3．控制系统1套。

套

1

67.5

否

4

金属离子源

主要由阴极及其推进系统、触发电极、阳极、等离子体扩散筒、三电极引出系统、高压绝缘柱和外屏蔽室等组成。离子源主要性能指标如下：² 引出栅口径：Φ100mm；
引出电压：10～80kV连续可调；
离子束流：1～8 mA连续可调；
阴极弧脉冲频率：0～50Hz可调；
束斑直径≥Φ100mm；
工作真空度：优于 1×10-2Pa；
适用靶材：所有的导电靶材如金属靶材、合金靶材及半导体靶材等；
结构设计便于阴极材更换；
结构设计便于栅网更换。

套

1

25

否